1.模型需勾选Generate Lightmap UVs，否则烘培图像撕裂。

 

2.关于为何新版的改叫Mixed Lighting，猜测是之前属于全部烘培，现在算是部分烘培，实时阴影和烘培阴影可以混用，等等，Unity的未来方向。

 

3.关于shadow mask。旧版本(5.4或者之前)，烘培出的贴图是没有shadow mask的，而且烘培阴影和实时阴影没法很好的融合，两种区分很明显。

其次是光照探头LightProbe也没办法把阴影暗部信息储存进去。现在的话实时阴影和烘培阴影可以很好的融合在一起，并且光照探头也会保存阴影信息

动态模型进入暗处后也会随之变暗。

而Distance Shadow mask则是近看是动态阴影，远看变成烘培阴影，但会带来更多的开销。

 

4.烘培光照参数设置:

1).Indirect Resolution 间接光照分辨率，设置低了烘培速度更快，反之越慢。不会影响最终贴图大小。

2).Lightmap Resolution 光照贴图分辨率，低了影响品质。会影响最终贴图大小，正比关系。

3).Lightmap Size 贴图尺寸，分辨率越高最终贴图大小也会增加，正比关系，但偶尔也有例外(场景比较小的情况下)。

4).Directional Mode 以前好像有一个Directional Specular，由于现在往混合光照方向发展，去掉了这个。这个设置成非方向性(Non-Directional)的可以优化最终贴图大小。

5).Mesh Renderer里的优化uv设置，角度和距离改了感觉对优化没什么用，可能影响显示效果。

 

暂时写这些，如果未来BakeGI接触的多了可能会写一篇详细的。